大塚电子薄膜厚度监测仪 膜厚 FE-300F

大塚电子薄膜厚度监测仪 膜厚 FE-300F

产品概述

FE-300F 是大塚电子一体式薄膜厚度监测仪，采用分光光干涉法，依靠内置高精度分光光度计采集样品反射光谱，通过多种解析算法计算膜层厚度与光学常数，属于台式一体化检测设备，适用于实验室研发、来料检验以及工艺品质评估场景。整机集成全部光学与电控组件，结构紧凑，操作便捷，采用非接触无损检测方式，减少样品损伤。

型号说明

型号：FE-300F；设备类型：薄膜厚度监测仪，国内由大塚电子（苏州）提供技术支持与售后服务。

整机用材与结构设计

整机为一体化全集成机箱，外壳选用防静电低析出材质，降低静电吸附粉尘，保护待测样品。光学腔体内部光学元件镀稳定光学膜，减少杂散光干扰，保障光谱采集稳定。内置光源、分光检测模组集成于机身内部，减少外部光路干扰；样品载台结构稳固，可平稳放置片状样品，适配晶圆、光学薄膜、玻璃基板等多种基材，整机体积小巧，便于在实验台布置。

核心参数表

产品优势特点

设备集成多种解析算法，包含峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法、优化法，可根据样品类型灵活选用。支持多层膜解析，无需剥离膜层，即可完成多层结构的膜厚测算，同时可解析折射率、消光系数等光学常数。非接触光学检测方式，不会划伤薄膜、涂层等软质样品，样品可重复使用。设备测量光斑尺寸小，支持微区点位检测，兼顾超薄膜与厚膜检测需求。操作界面简洁，参数设置简单，测量完成自动输出数据报表，方便数据归档、对比分析。整机一体化设计，光学组件集成度高，减少光路偏移，保障检测数据稳定。

产品用途

适用于透明导电膜、AR 增透膜、硬涂层、光学功能膜、光刻胶、DLC 涂层等样品检测；也可用于硅基薄膜、化合物半导体基板、光学滤光片等材料，广泛用于光学膜、平板显示、半导体、表面涂层行业的新材料研发、来料检验、涂布工艺品质管控。

使用说明

设备通电后启动软件，完成基准校准。将待测样品平整放置于载台，使测量区域对准光斑。在软件内选择解析算法，设置对应基材折射率等参数。启动测量，设备采集反射光谱，系统自动解析膜厚与光学常数，实时显示结果并保存数据。测量结束取出样品；日常定期清洁光学窗口与载台，按周期执行光路校准，维持设备测量稳定性。